实时氨逃逸分析系统

实时氨逃逸分析系统PUE-9000 ：用于 SCR/SNCR 脱硝工艺中实时监测烟气中未反应 NH₃浓度的核心设备，主流采用 TDLAS/QCL 激光吸收技术，配合高温伴热抽取预处理，兼具高精度、抗干扰与快速响应特性，是优化喷氨、保护设备、保障超低排放合规的关键工具。

一、核心技术原理

TDLAS（可调谐半导体激光吸收光谱）利用 NH₃分子对特定波长激光的选择性吸收，通过光强衰减反演浓度，配合多次反射气室提升灵敏度抗背景气体干扰、响应快（秒级）、检出限低（可达 0.1ppm）、非接触测量电厂 / 钢厂 SCR/SNCR 出口、中低粉尘工况

技术参数：

二、系统组成与功能

采样与预处理单元

高温伴热采样探头（伴热 180-240℃，过滤精度 2μm），防止 NH₃吸附与冷凝。

伴热传输管线（全程 180-240℃），避免样气损失。

自动反吹系统（压缩空气 / 氮气），防止滤芯堵塞，保障长期稳定。

多级过滤与冷凝分离，去除粉尘、水分，保护分析单元。

分析单元

TDLAS/QCL 激光发射与接收模块，含多次反射气室（光程可达数十米）。

信号处理模块，集成温度 / 压力补偿算法，确保数据准确。

校准接口，支持自动 / 手动标定（零点 / 量程气）。

控制与数据单元

PLC 控制系统，实现采样、反吹、加热、标定等自动化流程。

工业触摸屏，实时显示浓度、趋势、报警与系统状态。

数据采集与传输（4-20mA、RS485、Modbus、以太网），支持对接 DCS 与环保平台。

报警输出（浓度超限、激光器异常、伴热故障等），保障安全运行。

辅助单元

高温加热模块（伴热 / 气室加热）、电源模块、废液 / 废气处理装置。

三、关键技术参数（主流 TDLAS 系统）

参数项典型指标备注

测量量程0-5/10/20ppm（可定制）常规脱硝控制目标≤2ppm

检出限≤0.1ppm（QCL 可达 0.01ppm）超低排放场景优选 QCL

响应时间T90≤5s满足快速喷氨调节需求

测量精度±1% FS 或 ±0.1ppm（取大值）保障数据可靠性

伴热温度180-240℃防止 NH₃吸附与硫酸氢铵结晶

工作环境温度 - 20~50℃，湿度 0-95% RH（无冷凝）适应工业现场恶劣条件

输出接口4-20mA、RS485、以太网、继电器报警兼容主流控制系统

四、核心应用价值

工艺优化：实时反馈 NH₃浓度，动态调整喷氨量，平衡脱硝效率与氨逃逸，降低还原剂消耗。

设备保护：控制氨逃逸≤2ppm，减少硫酸氢铵生成，避免空预器腐蚀、堵塞，延长催化剂寿命。

环保合规：满足超低排放监测要求，数据可追溯，支持环保部门联网监管。

成本节约：降低设备维护与还原剂成本，提升系统运行经济性。

五、主流安装与维护要点

安装方式

抽取式：探头安装于烟道壁，样气经伴热传输至分析单元，适合高粉尘 / 大烟道工况。

原位式：激光发射 / 接收直接安装于烟道两侧，无采样损失，适合低粉尘 / 小烟道工况。

维护建议

定期反吹（每日 1-2 次），防止滤芯堵塞。

定期标定（每月 1 次零点 / 量程），确保数据准确。

季度检查伴热温度、气路密封性与激光模块状态。

六、选型建议

超低排放 / 高精度控制：优先 QCL + 高温伴热抽取系统，精度可达 0.01ppm。

常规工业脱硝：选择 TDLAS + 抽取式系统，平衡成本与性能。

预算有限 / 低精度需求：可选化学比色法系统，降低初期投入。

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